韩国芯片巨头SK海力士计划升级在华工厂

仇欣娥
导读 据韩国媒体报道,韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对于华极紫外光刻机出口的相关限制。
据韩国媒体报道,韩国芯片巨头SK海力士准备打破美国对于华极紫外光刻机出口的相关限制。对其中国半导体工厂进行技术方面的提升改造。这也被外界认为,随着半导体市场的复苏以及中国高性能半导体制造能力的不断提升。一些韩国芯片企业正准备采取一切可以使用的方法,来提高在中国工厂的制造工艺水平。在当地时间的1月13日,韩国业内人士表示,SK海事力计划在2024年将中国无锡工厂的部分动态随机存取存储器生产设备提升到第4代10纳米工艺。对于该升级计划,SK海力士方面表示,目前没有办法确认工厂的具体运营计划。 
无锡工厂也是SK海力士的核心生产基地,产量占到了DRAM总产量的40%,目前无锡工厂正在生产两款比较旧的10纳米DRAM。不过外界表示,SK海力士对于无锡工厂进行技术升级比较困难,因为美国为了阻止中国半导体产业的不断发展,从2019年开始就单方面限制制造尖端半导体必须得EUV光刻机出口中国。不过根据瑞银集团最近发布的一份报告称,虽然说美国正在用各种方式来阻止中国半导体的发展,但是中国已经克服了一些限制,中国的企业也正在加强对主要半导体制造设备的采购以及增加供应量。

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